Karbono tetrafluoruroa (CF4)

Parametro Teknikoak

Karbono tetrafluoruroa CF4 formula kimikoa duen hidrokarburo halogenatu bat da.Hidrokarburo halogenatua, metano halogenatua, perfluorokarburoa edo konposatu inorganiko gisa har daiteke.Karbono tetrafluoruroa kolorerik eta usainik gabeko gasa da, uretan disolbaezina, bentzenoan eta kloroformoan disolbagarria.Egonkorra tenperatura eta presio normaletan, saihestu oxidatzaile indartsuak, material sukoiak edo erregarriak.Gas ez-erregaia, ontziaren barne-presioa handitu egingo da bero handia jasanez gero, eta pitzadura eta lehertzeko arriskua dago.Kimikoki egonkorra da eta ez da sukoa.Amoniako-sodio metalezko erreaktibo likidoak soilik funtziona dezake giro-tenperaturan.Karbono tetrafluoruroa berotegi efektua eragiten duen gasa da.Oso egonkorra da, atmosferan denbora luzez egon daiteke eta berotegi-efektuko gas oso indartsua da.Karbono tetrafluoruroa hainbat zirkuitu integratuen plasma bidezko grabaketa prozesuan erabiltzen da.Laser gas gisa ere erabiltzen da, eta tenperatura baxuko hozgarrietan, disolbatzaileetan, lubrifikatzaileetan, material isolatzaileetan eta infragorrien detektagailuetarako hozgarrietan erabiltzen da.Mikroelektronika industrian plasma grabatzeko gas erabiliena da.Tetrafluorometano-apurtasun handiko gasaren eta tetrafluorometano-apurtasun handiko gasaren eta purutasun handiko oxigenoaren nahasketa bat da.Oso erabilia izan daiteke silizioan, silizio dioxidoan, silizio nitruroan eta fosfosilikato beiran.Tungstenoa eta wolframioa bezalako film meheko materialen grabaketa ere oso erabilia da gailu elektronikoen gainazaleko garbiketan, eguzki-zelulen ekoizpenean, laser teknologian, tenperatura baxuko hoztean, ihesen ikuskapenean eta zirkuitu inprimatuen ekoizpenean.Zirkuitu integratuetarako tenperatura baxuko hozgarri eta plasma lehorreko grabaketa teknologia gisa erabiltzen da.Biltegiratzeko neurriak: Biltegiratu gas erregairik gabeko biltegi fresko eta aireztatu batean.Mantendu su eta bero iturrietatik urrun.Biltegiratze-tenperaturak ez du 30 °C baino gehiago izan behar.Erregai eta oxidatzaile errazetatik (erregarriak) bereizita gorde behar da, eta biltegiratzea saihestu behar da.Biltegiratze-eremuak ihesak tratatzeko larrialdietarako ekipamenduz hornitu behar du.

Aplikazio:

① Hozgarria:

Tetrafluorometanoa batzuetan tenperatura baxuko hozgarri gisa erabiltzen da.

② Aguafortea:

Elektronika mikrofabrikazioan bakarrik edo oxigenoarekin konbinatuta silizioaren, silizio dioxidoaren eta silizio nitruroaren plasma grabatzaile gisa erabiltzen da.

Pakete arrunta:

Abantaila:

① Garbitasun handikoa, azken instalazioak;

②ISO ziurtagiriaren fabrikatzailea;

③Bidalketa azkarra;

④On-line analisi sistema urrats guztietan kalitatea kontrolatzeko;

⑤Bete aurretik zilindroa maneiatzeko eskakizun handia eta prozesu zorrotza;