Lema hau kontuan hartuta, CF4 gas karbono tetrafluoruro industrialerako aipatutako prezioaren fabrikatzaile teknologikoki berritzaileenetako, kostu-eraginkorrenetako eta prezio-lehiakorrenetako bat bihurtu gara. Kalitate onekoa, zerbitzu puntuala eta prezio oldarkorra, guztiek ospe bikaina eman digute xxx arloan, nazioarteko lehia gogorra izan arren.
Lema hau gogoan hartuta, fabrikatzaile teknologikoki berritzaileenetako, kostu-eraginkorrenetako eta prezio-lehiakorrenetako bat bihurtu gara.Txina CF4 hozgarri gasa eta gas zilindroaGure instalazio ondo hornituek eta ekoizpen-etapa guztietan kalitate-kontrol bikainak bezeroaren gogobetetasun osoa bermatzea ahalbidetzen digute. Gure produktu eta irtenbideren batean interesa baduzu edo eskaera pertsonalizatu bat eztabaidatu nahi baduzu, jar zaitez nirekin harremanetan. Mundu osoko bezero berriekin negozio-harreman arrakastatsuak sortzea espero dugu.
Zehaztapena | %99,999 |
Oxigenoa + Argona | ≤1ppm |
Nitrogenoa | ≤4 ppm |
Hezetasuna (H2O) | ≤3 ppm |
HF | ≤0,1 ppm |
CO | ≤0,1 ppm |
CO2 | ≤1 ppm |
SF6 | ≤1 ppm |
Halokokarbinoak | ≤1 ppm |
Ezpurutasun totalak | ≤10 ppm |
Karbono tetrafluoruroa CF4 formula kimikoa duen hidrokarburo halogenatu bat da. Hidrokarburo halogenatu, metano halogenatu, perfluorokarbono edo konposatu ez-organiko gisa har daiteke. Karbono tetrafluoruroa gas kolorgegabea eta usainik gabekoa da, uretan disolbaezina, bentzenoan eta kloroformoan disolbagarria. Tenperatura eta presio normaletan egonkorra da, saihestu oxidatzaile indartsuak, material sukoiak edo erregaiak. Gas ez-erregaia denez, ontziaren barne-presioa handituko da bero handia jasaten duenean, eta pitzadura eta leherketa arriskua dago. Kimikoki egonkorra eta ez-sukoia da. Amoniako-sodio metal erreaktibo likidoak bakarrik funtziona dezake giro-tenperaturan. Karbono tetrafluoruroa berotegi-efektua eragiten duen gasa da. Oso egonkorra da, denbora luzez egon daiteke atmosferan, eta berotegi-efektuko gas oso indartsua da. Karbono tetrafluoruroa hainbat zirkuitu integraturen plasma grabatzeko prozesuan erabiltzen da. Laser gas gisa ere erabiltzen da, eta tenperatura baxuko hozgarrietan, disolbatzaileetan, lubrifikatzaileetan, material isolatzaileetan eta infragorri detektagailuetarako hozgarrietan erabiltzen da. Mikroelektronika industrian gehien erabiltzen den plasma-grabatzeko gasa da. Tetrafluorometano gas purutasun handiko eta tetrafluorometano gas purutasun handiko eta oxigeno purutasun handiko nahasketa bat da. Oso erabil daiteke silizioan, silizio dioxidoan, silizio nitruroan eta fosfosilikato beiran. Wolframioa eta wolframioa bezalako film meheko materialen grabatzea ere oso erabilia da gailu elektronikoen gainazalen garbiketan, eguzki-zelulen ekoizpenean, laser teknologian, tenperatura baxuko hozkailuan, ihesen ikuskapenean eta zirkuitu inprimatuen ekoizpenean detergente gisa. Tenperatura baxuko hozgarri eta plasma lehorreko grabatzeko teknologia gisa erabiltzen da zirkuitu integratuetarako. Biltegiratzeko neurriak: Gorde gas-biltegi fresko, aireztatu eta ez-erregai batean. Mantendu su eta bero iturrietatik urrun. Biltegiratze-tenperaturak ez du 30 °C-tik gorakoa izan behar. Erraz (erregai) diren erregaietatik eta oxidatzaileetatik bereizita gorde behar da, eta saihestu biltegiratze mistoa. Biltegiratze-eremuak ihesak tratatzeko larrialdietako ekipamendua izan behar du.
① Hozgarria:
Tetrafluorometanoa batzuetan tenperatura baxuko hozgarri gisa erabiltzen da.
② Grabatua:
Elektronika mikrofabrikazioan erabiltzen da, bakarrik edo oxigenoarekin konbinatuta, silizio, silizio dioxido eta silizio nitruroaren plasma grabatzaile gisa.
Produktua | Karbono tetrafluoruroa CF4 | ||
Paketearen tamaina | 40 litroko zilindroa | 50 litroko zilindroa | |
Betetze-pisu garbia/zilindroa | 30 kg | 38 kg | |
20'-ko edukiontzian kargatutako kantitatea | 250 zilindro | 250 zilindro | |
Pisu garbi osoa | 7,5 tona | 9,5 tona | |
Zilindroaren Tara Pisua | 50 kg | 55 kg | |
Balbula | CGA 580 |
① Purutasun handikoa, azken instalazioa;
②ISO ziurtagiriaren fabrikatzailea;
③ Bidalketa azkarra;
④Kalitate-kontrolerako lineako analisi-sistema urrats guztietan;
⑤ Zilindroa bete aurretik maneiatzeko eskakizun handia eta prozesu zehatza;Lema hau kontuan hartuta, CF4 gas karbono tetrafluoruro industrialerako aipatutako prezioaren fabrikatzaile teknologikoki berritzaileenetako, kostu-eraginkorrenetako eta prezio-lehiakorrenetako bat bihurtu gara. Kalitate onekoa, zerbitzu puntuala eta prezio oldarkorra, guztiek ospe bikaina eman digute xxx arloan, nazioarteko lehia gogorra izan arren.
Aipatutako prezioaTxina CF4 hozgarri gasa eta gas zilindroaGure instalazio ondo hornituek eta ekoizpen-etapa guztietan kalitate-kontrol bikainak bezeroaren gogobetetasun osoa bermatzea ahalbidetzen digute. Gure produktu eta irtenbideren batean interesa baduzu edo eskaera pertsonalizatu bat eztabaidatu nahi baduzu, jar zaitez nirekin harremanetan. Mundu osoko bezero berriekin negozio-harreman arrakastatsuak sortzea espero dugu.