ODM hornitzailea Txina Halokarbon C318 C4F8 Octafluorocyclobutane

Gure erosleei ODM hornitzaile Txinarentzako zerbitzu gogotsuenak erabiliz gure erosleei eskaintzera bideratuko garaHalokarbon c318C4F8 Octafluorokyclobutane, etengabe ehizatzen ari gara hornitzaile berriekin harremana ezartzeko, gure erosleen alternatiba progresiboak eta adimentsuak hornitzeko.
Gure erosle estimatuek zerbitzu gogotsuenak erabiliz eskaintzen dizkieguTxina octafluorocyclobutane, Halokarbon c318, Merkatu globalen merkatuan erabiltzaile gehiagoren konponbideak eta zerbitzuak eskaintzea espero dugu; Gure marka estrategia globala jarri genuen abian, gure mundu osoko gure merkantzia bikainak emanez, gure bikote ospetsuen arabera, erabiltzaile globalek erritmoa mantentzen dute teknologiaren berrikuntza eta lorpenak gurekin.

Parametro teknikoak

Octafluorocyclobutane substantzia kimikoa da, ziklobutanaren eratorritako eratorritako perfluorinatua eta bere formula kimikoa C4F8 da. Kolorerik gabekoak, usainik gabekoak, ez-sukoiak. Naturan egonkorra eta ez-toxikoak. Bero handia izanez gero, edukiontziaren barne-presioa handitu egingo da, eta pitzadura eta leherketa arriskua egongo da. Errekuntza (deskonposizioa) produktua hidrogeno fluoruroa da. Octafluorocyclobutane oso egonkorra da eta ez du beste substantziekin erreakzionatzen baldintza normaletan. Biltegiratze eta erreakzio ontzia burdina eta altzairu herdoilgaitzez egin daiteke 120 ºC-tan, eta altzairua 175 ºC-tan erabil daiteke. 400 ° C gainditzen duenean, adibidez, nikela eta platinoa bezalako materialak ere kaltetuta egon daitezke. 500 ºC-tan, material horiek efektu katalitikoa dute deskonposizioan. Tenperatura altuetan (600 ° C), octafluorocyclobutane karbono, karbono tetrafluoruro eta konposatu toxikoetan deskonposatu daiteke. Octafluorocyclobutane aplikazio oso zabala du. Azken urteotan oso erabilia izan da hozgarri gisa debekatutako klorofluorokarbono konposatuak ordezkatzeko. Horrez gain, normalean, gas isolamenduan, disolbatzaile, spray, aparra, aparra, eta eskala handiko zirkuituen grabiboak ere erabiltzen dira. , Bero ponpa laneko fluidoak eta lehengaiak C2F4 eta C3F6 monomers ekoizteko. Purutasun handiko octafluorocyclobutane (5n gainetik) grabazio agente eta garbiketa agente gisa erabiltzen da VLSI zirkuituetarako. Bere propietate egonkorrak, toxikotasunak, zero ozono agortzea potentziala (ODP) eta isolamendu ona direla eta, octafluorocyclobutane oso erabilia izan da azken urteotan tentsio handiko isolamendua, garbiketa eta grabaketa eta plasma tratamendua. Leakage-ri larrialdiko erantzuna: jantzi autonomoa arnasteko aparatuak eta laneko arropak. Moztu gas iturria. Aireztapena eta konbekzioa, diluzioa eta difusioa. Eraman isuriko edukiontzia eremu irekira eta arreta jarri aireztapenari. Edukiontzi ihesak ezin dira gehiago erabili, eta tratamendu teknikoa jasan behar du gainerako gasa kentzeko.

Aplikazioa:

① Elikagaien industria:

Batez ere elikagaien industrian spray agente gisa erabiltzen da.

② Industria elektronikoa:

Zirkuitu integratuaren sorginkeria, SF6rekin nahasketa dielektriko gisa ere erabiltzen da, eta konposatu fluoratuekin polimerizaziorako laguntza.

Pakete normala:

Abantaila:

Merkatuan hamar urte baino gehiago;

②ISO ziurtagiri fabrikatzailea;

③ ENTREGATZEA;

Lehengaien lehengaien iturria;

⑤On-Linearen azterketa sistema kalitate kontrolerako urrats guztietan;

Zilindroa bete aurretik zilindroa manipulatzeko eskakizuna eta prozesu zorrotza;Gure erosleei ODM hornitzaile Txinarentzako zerbitzu gogotsuenak erabiliz gure erosleei eskaintzera bideratuko garaHalokarbon c318C4F8 Octafluorokyclobutane, etengabe ehizatzen ari gara hornitzaile berriekin harremana ezartzeko, gure erosleen alternatiba progresiboak eta adimentsuak hornitzeko.
ODM hornitzaileaTxina octafluorocyclobutane, Halokarbon C318, merkatuko merkatu globaletan erabiltzaile gehiagoren konponbideak eta zerbitzuak eskaintzea espero dugu; Gure marka estrategia globala jarri genuen abian, gure mundu osoko gure merkantzia bikainak emanez, gure bikote ospetsuen arabera, erabiltzaile globalek erritmoa mantentzen dute teknologiaren berrikuntza eta lorpenak gurekin.