Txinako preziorik merkeena 2018 Top fabrikazio hornidura Tetrafluoruro CF4 Gas

Antolakuntzak "1. zk. Kalitate onean, izan daitezen, hazkundearen gaineko fidagarritasunari buruz", etxetik eta atzerrian berregiteko. 2018ko China 2018ko preziorik gabeko produktuetarako.
Antolakuntzak "1. zenbakia izan da kalitate onean, kredituaren historiari eta fidagarritasunean sustraiak izan daitezen", aurrera jarraituko du aurreko eta bezero berriak etxetik eta atzerrian berotzekoKarbono tetrafluoruro gasa, Txina CF4 gasa, gure bazkide kooperatiboekin elkarren onurarako merkataritza mekanismoa eraikitzeko abantailak oinarritzen ditugu. Ondorioz, salmenta sare global bat lortu dugu Ekialde Hurbilera, Turkia, Malaysia eta Vietnamera iristen.

Parametro teknikoak

Karbono tetrafluoruro hidrokarburo halogenatua da CF4 formula kimikoarekin. Hidrokarburo halogenatu gisa, metano halogenatua, perfluorokarbono edo konposatu ezorganiko gisa har daiteke. Karbono tetrafluoruroa kolorerik gabeko eta usainik gabeko gas bat da, uretan disolbagarria, bentzeno eta kloroforman disolbagarria. Egonkorra tenperatura eta presio normalaren azpian, saihestu oxidatzaile sendoak, material sukoiak edo erregarriak. Gas ez-erregaiak, edukiontziaren barne-presioa handitu egingo da su-beroaren eraginpean dagoenean, eta pitzadura eta leherketa arriskua dago. Kimikoki egonkorra da eta ez da sukoia. Amoniako sodio metaliko erreaktibo likidoak bakarrik funtziona dezake tenperaturan. Karbono tetrafluoruroa negutegi efektua eragiten duen gasa da. Oso egonkorra da, atmosferan egon daiteke denbora luzez, eta berotegi-efektuko gas oso indartsua da. Karbono tetrafluoruro zirkuitu integratuen plasma grabatzeko prozesuan erabiltzen da. Laser gas gisa ere erabiltzen da eta tenperatura baxuko hozkailu, disolbatzaile, lubrifikatzaile, material isolatzaileetan eta infragorriko detektagailuetarako hozkailuetan erabiltzen da. Mikroelektronika industrian gehien erabiltzen den plasma grabatzeko gas da. Tetrafluoromethane Gas handiko gasaren eta tetrafluorometanen gasaren eta garbitasun handiko oxigenoaren nahasketa da. Oso erabil daiteke silizioan, silizio dioxidoan, silizio nitruro eta fosfosilikoan. Tungsteno eta tungsteno meheen grabaketa ere oso erabilia da gailu elektronikoen gainazalean, eguzki zelulen ekoizpena, laser teknologia, tenperatura baxuko hozteak, ihesak eta garbigailua zirkuitu inprimatutako produkzioan. Zirkuitu integratuetarako tenperatura baxuko hozgailu eta plasma lehorra da. Biltegiratzeko neurriak: Gorde ez den gas biltegian aireztatu gabeko denda. Mantendu sutea eta bero iturriak. Biltegiratze-tenperaturak ez du 30 ºC baino gehiago izan behar. Konbinazio erraz (erregaiak) eta oxidatzaileei bereizita gorde beharko lirateke eta biltegiratze mistoa saihestu behar da. Biltegiratze eremua larrialdietarako tratamendu ekipamenduekin hornituta egon behar da.

Aplikazioa:

① Hozkailua:

Tetrafluorometoa tenperatura baxuko hozgarri gisa erabiltzen da batzuetan.

② Etching:

Mikrofabrikazio elektronikan bakarrik erabiltzen da edo oxigenoarekin konbinatuta silizioaren, silizio dioxidoaren eta silikonon nitruroetarako plasma-ganga gisa konbinatuta.

Pakete normala:

Abantaila:

①High garbitasuna, azken instalazioak;

②ISO ziurtagiri fabrikatzailea;

③ ENTREGATZEA;

④On-Linearen azterketa sistema kalitate kontrolerako urrats guztietan;

Zilindroa bete aurretik zilindroa manipulatzeko eskakizuna eta prozesu zorrotza;Antolakuntzak "1. zk. Kalitate onean, izan daitezen, hazkundearen gaineko fidagarritasunari buruz", etxetik eta atzerrian berregiteko. 2018ko China 2018ko preziorik gabeko produktuetarako.
Prozedura merkeagoaTxina CF4 gasa, Karbono tetrafluoruro gasa, gure bazkide kooperatiboekin elkarren onurarako merkataritza mekanismoa eraikitzeko abantailak oinarritzen ditugu. Ondorioz, salmenta sare global bat lortu dugu Ekialde Hurbilera, Turkia, Malaysia eta Vietnamera iristen.