2022 handizkako prezioa Txina salmenta ona Gas karbono tetrafluoruro gasa

Badakigu gure kostu handiko lehiakortasunerako eta kalitate handiko abantailatsuak 2022 handizkako prezio onerako salmenta ona bermatzen badugu.
Badakigu aldi berean gure kostu konbinatuko lehiakortasunarekin eta kalitate handiko abantailatsua bermatzen dugulaTxinako karbono tetrafluoruro gasaMende berrian, "United, arduratsua, eraginkortasun handia, berrikuntza" gure espiritua sustatzen dugu, eta gure politikari itsatsi "kalitateari dagokionez, lehen mailako marka lortzeko deigarria". Urrezko aukera hau hartuko genuke etorkizun distiratsua sortzeko.

Parametro teknikoak

Karbono tetrafluoruro hidrokarburo halogenatua da CF4 formula kimikoarekin. Hidrokarburo halogenatu gisa, metano halogenatua, perfluorokarbono edo konposatu ezorganiko gisa har daiteke. Karbono tetrafluoruroa kolorerik gabeko eta usainik gabeko gas bat da, uretan disolbagarria, bentzeno eta kloroforman disolbagarria. Egonkorra tenperatura eta presio normalaren azpian, saihestu oxidatzaile sendoak, material sukoiak edo erregarriak. Gas ez-erregaiak, edukiontziaren barne-presioa handitu egingo da su-beroaren eraginpean dagoenean, eta pitzadura eta leherketa arriskua dago. Kimikoki egonkorra da eta ez da sukoia. Amoniako sodio metaliko erreaktibo likidoak bakarrik funtziona dezake tenperaturan. Karbono tetrafluoruroa negutegi efektua eragiten duen gasa da. Oso egonkorra da, atmosferan egon daiteke denbora luzez, eta berotegi-efektuko gas oso indartsua da. Karbono tetrafluoruro zirkuitu integratuen plasma grabatzeko prozesuan erabiltzen da. Laser gas gisa ere erabiltzen da eta tenperatura baxuko hozkailu, disolbatzaile, lubrifikatzaile, material isolatzaileetan eta infragorriko detektagailuetarako hozkailuetan erabiltzen da. Mikroelektronika industrian gehien erabiltzen den plasma grabatzeko gas da. Tetrafluoromethane Gas handiko gasaren eta tetrafluorometanen gasaren eta garbitasun handiko oxigenoaren nahasketa da. Oso erabil daiteke silizioan, silizio dioxidoan, silizio nitruro eta fosfosilikoan. Tungsteno eta tungsteno meheen grabaketa ere oso erabilia da gailu elektronikoen gainazalean, eguzki zelulen ekoizpena, laser teknologia, tenperatura baxuko hozteak, ihesak eta garbigailua zirkuitu inprimatutako produkzioan. Zirkuitu integratuetarako tenperatura baxuko hozgailu eta plasma lehorra da. Biltegiratzeko neurriak: Gorde ez den gas biltegian aireztatu gabeko denda. Mantendu sutea eta bero iturriak. Biltegiratze-tenperaturak ez du 30 ºC baino gehiago izan behar. Konbinazio erraz (erregaiak) eta oxidatzaileei bereizita gorde beharko lirateke eta biltegiratze mistoa saihestu behar da. Biltegiratze eremua larrialdietarako tratamendu ekipamenduekin hornituta egon behar da.

Aplikazioa:

① Hozkailua:

Tetrafluorometoa tenperatura baxuko hozgarri gisa erabiltzen da batzuetan.

② Etching:

Mikrofabrikazio elektronikan bakarrik erabiltzen da edo oxigenoarekin konbinatuta silizioaren, silizio dioxidoaren eta silikonon nitruroetarako plasma-ganga gisa konbinatuta.

Pakete normala:

Abantaila:

①High garbitasuna, azken instalazioak;

②ISO ziurtagiri fabrikatzailea;

③ ENTREGATZEA;

④On-Linearen azterketa sistema kalitate kontrolerako urrats guztietan;

Zilindroa bete aurretik zilindroa manipulatzeko eskakizuna eta prozesu zorrotza;Badakigu bakarrik lortzen dugula gure kostu konbinatuaren eta kalitate handiko abantailak 2022 handizkako prezioaren aldi bereanTxinako karbono tetrafluoruro gasaGainera, mundu osoko bezeroak, negozio elkarteak eta lagunak ongi etorriak ditugu gurekin harremanetan jartzeko eta elkarrekiko prestazioetarako lankidetza bilatzeko.
2022 Handizkako prezioa Txinako karbono tetrafluoruro gasa, gure enpresa espiritua "United, arduratsua, eraginkortasun handia, berrikuntza" sustatzen dugu, eta gure politikari itsatsi "kalitateari dagokionez, lehen mailako markako deigarria". Urrezko aukera hau hartuko genuke etorkizun distiratsua sortzeko.